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     步进重复投影曝光（stepping-repeating project printing或称作stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（i line）～0.25μm（duv）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（exposure field）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。
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     光刻机中工作台上设置有一个特定的检测系统(1nsitu)，在检测系统上设置了几组基准标记(fiducialmark)，每台设备中各基准标记相对于曝光轴之间的距离是一组设备常数，在设备出厂前作为机器常数存放在相应的软件文件中。但由于硬件安装、环境变化等多方面原因会造成实际位置和设备常数之间有一个偏差值，即所谓的基准补偿值(baselineoffset)，通过标准片在不同设备上曝光的位置可以求出隔栅误差的各种差异，进而根据匹配要求，适当加入-定量的基准补偿值进而达到最.佳的隔栅误差匹配。
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     光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。场镜误差的匹配性最终反映在民机场内套刻误差的差异性上，因为每种透镜均有一个特征畸变图形，其位置误差作为曝光像场位置的一种函数。

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